TN-EVP180G-2S-LV 本小型蒸發鍍膜儀可進行真空蒸鍍，設備配有兩套蒸發源，可以通過擋板切換，實現對樣品的多層鍍膜，在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中，樣品臺可進行旋轉，以獲得更均勻的薄膜。鍍膜電流*大可達60A。儀器體積小巧，可有效節約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應性強，十分適合實驗室選購

應用領域

本型號的小型蒸發鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。

產品名稱	桌面型雙源熱蒸發鍍膜儀
產品型號	TN-EVP180G-2S-LV
主要特點	A.樣品臺可以旋轉，鍍膜效果能夠更加均勻； B.采用鎢絲籃為發熱源，*高溫度可達到1700℃； C.雙蒸法源，可以實現多層鍍膜； D.進氣口配有針閥，用于調節進氣流量； E.可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應氣體，進行反應蒸發鍍膜
技術參數	1.樣品臺：直徑65mm, 轉速0-20rpm，至蒸發源距離 60-100mm 可調 2.蒸發系統：2套鎢絲藍、 max1700℃、B型熱電偶 3.真空腔體：直徑180mm*210mm、高純石英全向透明 4.真空系統：機械泵（旋片泵）、電阻規測量、KF16 接口，進氣接口 1/4NPS
產品規格	供電電壓：AC220V 50Hz,功率：1200W,尺寸：500mm*350mm*400mm