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三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶為2英寸，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個500W直流電源，一個300W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
技術參數：
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產品名稱 |
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制 |
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產品型號 |
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
6KW |
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系統真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加熱溫度 |
≦850℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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數量 |
3 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ325mm |
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腔體材質 |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開啟方式 |
頂開式 |
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氣體控制 |
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統 |
配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
配直流電源,功率500W*2 射頻電源300W |
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控制系統 |
CYKY自研專業級控制系統 |
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設備尺寸 |
570mm×1040mm×1700mm |
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設備重量 |
350kg |
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